智能型研磨抛光清洗机
(气压式)
P20HWA-4-RC6

头部转速可调整头部转速范围广，可灵活依据样品的材质与特性进行调整，满足各种不同材料的需求。

微速磨抛功能适合长时间的精密磨抛作业，特别是对於需要零变形的样品制备。

个别施压：数位控制、气压稳定供给施力 使用者能依据样品的特性与制备需求，精确设定合适的压力。

精密微压力调整(选购)可选购精密微压力调整，专为需要精细处理的样品制备需求而设计。此轻量施压适用於脆弱、敏感或要求低压处理的样品，确保在制备过程中不会对样品造成压力损伤或变形。

整体施压确保样品在研磨与抛光过程中受力均匀，进一步提升表面的平整度与一致性。采用快拆式设计，样品支撑盘可快速拆卸，方便进行清洁或整平作业。

盘面多样性，适用於各式耗材提供8寸和10寸两种盘面尺寸，使用者可根据样品需求及实验条件灵活选择适合的盘面尺寸和类型。研磨盘适合搭配水砂纸类耗材使用，抛光盘则可配合抛光绒布，此外，还有磁性盘组以供灵活应用，满足不同制样需求。

快速甩水功能具备快速甩水功能，能快速清洁研磨或抛光耗材的表面，确保在每道制样过程後盘面立即恢复洁净。快速甩水设计不仅提升了操作便利性，更有效缩短清洁时间，进一步加速整体制样流程。

过载保护具备自动过载保护功能，能够在操作期间监测压力，确保压力不超过原厂预设的安全值。一旦压力超出安全范围，机台会立即自动停止运作，从而避免可能的机械损坏或样品受损，提供额外的保护层级。

连动滴瓶机构通过人机介面可轻松设定滴瓶参数，实现精准且稳定的抛光液供应。使用者可根据样品材质及抛光需求，调整滴液速率及时间，确保抛光程序的可控性和高再现性。

兼具磨抛及样品洗净的功能不仅具备研磨与抛光功用，还提供样品洗净的功能，使其成为多功能一体化的制样设备。操作人员在进行研磨或抛光後，可直接使用洗净功能，快速去除样品表面残留的粉尘和抛光液，大幅节省时间并提升制样流程的效率。

智能清洗在研磨/抛光完成後，研磨头会自动定位到清洗槽，进入清洗程序，无需人员额外花费时间清洁样品，显着节省人力资源。

超声波清洁结合自动超声波水洗净与乾燥功能，无需拆卸样品盘或取下样品，即可进行清洁程序，避免制备过程中的交叉污染，大幅提升工作效率。

研磨/抛光中无需更换耗材透过四盘面的创新设计，使用者在进行研磨与抛光操作时无需频繁更换耗材，优化了工作流程。这种设计不仅显着降低操作时间，还减少了人力投入，使整体磨抛效率得到提升。

操作人员节省时间近95%较传统清洁方式，使用者可透过一键自动洗净功能轻松完成样品清洁程序，并大幅节省人员清洁样品时间，节省近95%的时间。

研磨深度可设定与自动化调整定寸功能可用於精确控制研磨深度，使用者可透过触控面板进行设定深度，於磨抛的过程中机器自动调整研磨深度。研磨深度的行程范围可达 5mm，最小调整刻度为0.01mm，不仅具备高精度，操作也相当便捷。

研磨头左右摆动提升研磨效能透过研磨头左右摆动设计，有效提升了研磨过程中的效能与均匀性。此设计利用头部摆动的方式，使研磨头能够覆盖更大的研磨/抛光范围，有效避免耗材局部过度磨损，延长耗材的使用寿命，进一步降低使用成本。

环境友善使用超声波水洗净功能清洁样品，无需使用化学清洁剂即可达到高效的样品清洁效果。透过超声波震动将水分子加速，深入样品表面及微小缝隙，有效去除污染物、粉尘及抛光残留物，确保样品的洁净度同时减少对环境的污染。

10组记忆模组，每组可设定4道参数高画质彩色触控面板及直觉式人机介面设计，配置10组记忆模组，每组可储存4道不同的研磨参数，方便使用者快速切换并保存不同的研磨程序。

LED灯辅助提升观察细节LED灯具的高亮度与均匀照明设计，为使用者在研磨与抛光作业後提供了良好的观察环境。高亮度，提升可视性，帮助使用者快速辨识研磨与抛光的处理效果。

光栅安全保护装置通过高精度的光学感应系统，为操作人员和设备提供安全的防护，利用光束遮断的原理，当检测到异物或人体接近工作区域时，能在瞬间触发停机机制，有效避免意外发生。

三色灯设计简化机台运行状态监控 透过简单而直观的三色灯设计，使用者能够迅速了解机台的即时状态，无需经过繁琐的操作或详细的检查，提升了工作效率与操作便利性。1.当红灯亮起时，表示机台处於急停或发生异常状况。2.当黄灯亮起时，代表机台正在进行原点复归。3.当绿灯亮起时，表示机台已进入正常运行状态，工作流程稳定，无需额外干预。

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