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研磨拋光清洗機(氣壓式): P20GWA-2-RC6 全新上市
1. 兼具研磨拋光及樣品洗淨的功能2. 研磨/拋光完成,自動接續洗淨流程3. 超音波清潔有效避免製備過程中的交叉污染4. 操作人員節省時間超過80%5. 10組記憶模組,每組可設定5道參數6. 個別施壓及整體施壓功能7. 研磨深度可設定與自動化調整
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