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研磨拋光清洗機(氣壓式): P20GWM-2-RC6 全新上市
1. 兼具研磨拋光及樣品洗淨的功能2. 一鍵完成自動洗淨流程3. 超音波清潔有效避免製備過程中的交叉污染4. 操作人員節省時間超過60%5. 樣品製備流程加速近10%6. 10組記憶模組,每組可設定5道參數7. 個別施壓功能
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