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研磨拋光清洗機(氣壓式) P20GWM-2-RC6 影片及單張型錄上線

發佈日期
2025/01/07
訊息內容

研磨拋光清洗機(氣壓式): P20GWM-2-RC6 全新上市





1. 兼具研磨拋光及樣品洗淨的功能

2. 一鍵完成自動洗淨流程

3. 超音波清潔有效避免製備過程中的交叉污染

4. 操作人員節省時間超過60%

5. 樣品製備流程加速近10%

6. 10組記憶模組,每組可設定5道參數

7. 個別施壓功能



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