讯息主题

节省您80%的操作时间! P20GWA-2-RC6 自动磨抛清洗机全新上市!

发布日期
2025/01/10
讯息内容

磨抛清洗机(气压式): P20GWA-2-RC6 全新上市





1. 兼具研磨抛光及品清洗的功能

2. 研磨/抛光完成,自动接续清洗流程

3. 超声波清洁有效避免制备过程中的交叉污染

4. 操作人员节省时间超过80%

5. 10组记忆模块,每组可设定5道参数

6. 个别施压及整体施压功能

7. 研磨深度可设定与自动化调整



官网资讯连结



请至 联系我们 页面,获取更多机台相关资讯!