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磨抛清洗机(气压式): P20GWA-2-RC6 全新上市
1. 兼具研磨抛光及品清洗的功能2. 研磨/抛光完成,自动接续清洗流程3. 超声波清洁有效避免制备过程中的交叉污染4. 操作人员节省时间超过80%5. 10组记忆模块,每组可设定5道参数6. 个别施压及整体施压功能7. 研磨深度可设定与自动化调整
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