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磨抛清洗机(气压式): P20GWM-2-RC6 全新上市
1. 兼具磨抛及樣品洗净的功能
2. 一键完成自动洗净流程
3. 超音波清洁有效避免制备过程中的交叉污染
4. 操作人员节省时间超过60%
5. 樣品制备流程加速近10%
6. 10组记忆模组,每组可设定5道参数
7. 个别施压功能
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